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Geräte für die Herstellung von Halbleitern, Mikrochips und Flachbildschirmen.
Produktdetails:
| Herkunftsort: | China |
| Markenname: | CHONGYANG |
| Zertifizierung: | ISO ,CE |
| Modellnummer: | CY-UP -10000L/H |
Zahlung und Versand AGB:
| Min Bestellmenge: | 1 |
|---|---|
| Preis: | negotiable |
| Verpackung Informationen: | Gemäß der Ausfuhrnorm |
| Lieferzeit: | Mit 30-40 Tagen |
| Zahlungsbedingungen: | L/C, T/T |
| Versorgungsmaterial-Fähigkeit: | 100 Sätze/Monat |
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Detailinformationen |
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| Produktname: | Ro-Anlage | Kapazität: | 10000L/H-100000L/H |
|---|---|---|---|
| Material: | Edelstahl 304, 316L UPVC | RO -Membran: | Doppelter RO, einzelner RO |
| Wassertank: | Rohwasser-Behälter, RO-Wasserbehälter, mittlerer Wasser-Behälter | PR-Behandlung: | Multi-Mediumfilter, Aktivkohlefilter, Weichmachungsmittel |
| Pumpe Marke: | Grundfos, CNP | Ro-Wohnungs-Material: | SS, FRP |
| Widerstand: | 18,2 MΩ·cm | Ventil: | Schmetterlingsventil |
Produkt-Beschreibung
Ausführliche Spezifikationen für Geräte für Ultrareinwasser (UPW) der Elektronikklasse
Elektronik-Grade Ultrapure Water (UPW) -Geräte sind so konzipiert, dass sie Wasser höchster Reinheit produzieren, was für die Herstellung von Halbleitern, Mikrochips und Flachbildschirmen von entscheidender Bedeutung ist.Das System muss zuverlässig einen Widerstand von18.2 MΩ·cmBei 25°C sind die Emissionen von Ionen, Partikeln, Bakterien und Gesamtorganischem Kohlenstoff (TOC) extrem gering.
1. Kapazität (Durchflussrate)
Die...DurchflussDie Größe eines UPW-Systems ist in hohem Maße an die Anforderungen der Fabrik angepasst.
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Standardbereich:
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Umlaufstrom:50 m3/h ¥ 200 m3/h (220 ¥ 880 GPM)
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Schminkfluss:10 m3/h 100 m3/h (44 440 GPM)
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2Schlüsselspezifikationen
| Parameter | Spezifikation | Zweck / Begründung |
|---|---|---|
| Endgültige Wasserqualität | ||
| Widerstand | 18.2 MΩ·cmbei 25°C | Die Messung der Ionenreinheit, das theoretische Maximum. |
| TOC (Gesamtorganischer Kohlenstoff) | < 1 ppb (μg/l) | Verhindert organische Kontamination auf Wafern. |
| Partikelzahl (≥ 0,05 μm) | < 100 / Liter | Eliminiert Defekte in Nanoskala-Schaltungen. |
| Silikon (SiO2) | < 0,1 ppb | Vorformen von isolierenden Oxidschichten. |
| Bakterien | < 0,01 CFU/ml | Verhindert Biofilme und mikrobielle Kontamination. |
| Systemkomponenten | ||
| Vorbehandlung | Multimediafilter, Kohlenstofffilter, Weichmacher | Entfernt schwebende Feststoffe, Chlor und organische Stoffe. |
| Erste Reinigung | Doppelpass RO (Umkehrosmose) | Entfernt > 99% der gelösten Salze und organischen Stoffe. |
| Polstern | EDI (Elektrodeionisierung) | Kontinuierliche, chemiefreie Entfernung von Rest-Ionen. |
| Letztes Polnisch | UV-Lampe (185nm & 254nm), Polieren von gemischtem Bett DI | 185 nm UV oxidiert organische Stoffe; die Endpolierung sorgt für 18,2 MΩ·cm. |
| Verteilung | Kontinuierliche Umlaufschleife mit 0,1 μm Filtern | Beibehält die Reinheit am Gebrauchspunkt und verhindert das Nachwachsen von Bakterien. |
3. Baumaterialien
Die Wahl der Materialien ist entscheidend, um zu verhindern, daß das System selbst zu einer Quelle der Kontamination wird.
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Rohrleitungen und Armaturen: PVDF (Polyvinylidenfluorid)ist der Industriestandard für die hochreine Schleife.316L Edelstahl(Elektropoliert, kohlenstoffarm) wird für Tanks und einige Vorbehandlungskomponenten verwendet.
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Schaltflächen PVDF-DiaphragmaventileoderVentile aus Polypropylensind Standard, um abgestorbene Beine und Kontamination zu minimieren.
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Pumps: Edelstahl (316L)mit hochwertigen Dichtungen.
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Geräte:Alle benetzten Teile müssen kompatibel sein (z. B. PVDF, PFA, 316L SS), um Auslaugung zu vermeiden.
4. Stromverbrauch
Die...LeistungDie wichtigsten Energieverbraucher sind Hochdruck-RO-Pumpen und UV-Lampen.
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Typischer Bereich: 50 kW 500 kW
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Für ein kleines System (10 m3/h) können ~50-100 kW erforderlich sein.
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Eine große Anlage (100 m3/h) kann 300-500 kW oder mehr benötigen.
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Zusammenfassung:
Ein18.2 MΩ·cm UltrareinwassersystemDer Reinigungszug ist ein komplexer, mehrstufiger Reinigungszug.Durchflussmengenund extreme Wasserqualitätsparameter für die inertePVDF-Materialienund beträchtlicheLeistungDie Anforderungen an die Reinheit der Elektronikindustrie werden so erfüllt, dass hohe Produktionserträge und Produktleistung gewährleistet werden.
